報告題目：電催化劑缺陷化學(xué)
報告人： 王雙印 教授
報告時間：2018年11月14日上午10點-11點
報告地點：曹光彪樓326會議室
邀請人：夏新輝 研究員
報告摘要：
電催化過程主要發(fā)生在電催化劑的表面。因此，在催化劑設(shè)計中，針對電催化劑的表面設(shè)計與調(diào)控至關(guān)重要。那么，什么樣的表面對電催化性能較為有利呢？早期的大量研究表明，電催化劑的表面缺陷，包括雜質(zhì)缺陷、空位缺陷、填隙缺陷等，對電催化性能的提高具有正效應(yīng)。事實上，多數(shù)催化劑晶體在制備過程中都不可避免地引入各種類型的缺陷。但是，如何可控的產(chǎn)生缺陷、調(diào)控缺陷類型、控制缺陷濃度還需要深入系統(tǒng)的研究。與此同時，缺陷與性能之間的構(gòu)效關(guān)系也需要進(jìn)一步的梳理。因此，圍繞缺陷化學(xué)，對電催化劑進(jìn)行表面調(diào)控具有非常大的研究空間。本文將介紹近年來，我們課題組在催化劑表面調(diào)控,尤其是缺陷化學(xué)方面取得的進(jìn)展。
簡介：
王雙印，國家杰出青年基金獲得者, 現(xiàn)為湖南大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院教授，博士生導(dǎo)師。2006年本科畢業(yè)于浙江大學(xué)化工系，2010年在新加坡南洋理工大學(xué)獲得博士學(xué)位，隨后在美國凱斯西儲大學(xué)，德克薩斯大學(xué)奧斯汀分校、英國曼徹斯特大學(xué)（瑪麗居里學(xué)者）開展研究工作。主要研究方向為電催化劑的表面調(diào)控。目前，已在國際著名期刊Nature Communications,JACS, Angew. Chem，Advanced Materials等發(fā)表學(xué)術(shù)論文100余篇，總引用7000余次，h-index為45。
